CARACTERISTICAS MORFOLOGICAS DE LAMINAS DELGADAS DE ZnO:Al OBTENIDAS POR SPUTTERING DE RF

Autores/as

  • M. G. Furlani Universidad Nacional del Litoral
  • R. H. Buitrago Universidad Nacional del Litoral Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - CONICET

Resumen

El óxido de zinc dopado con aluminio (ZnO:Al) en forma de película delgada fue depositado por la técnica de sputtering de RF. Se modificó la geometría del reactor y las variables de operación tales como la temperatura del sustrato y la presión de argón, para depositar una serie de filmes con propiedades ópticas diversas. La transmitancia óptica se registró con un espectrofotómetro UV-Vis y se obtuvieron los espesores por el método de Swanepoel. Se estudió la morfología de la superficie incluyendo el crecimiento piramidal y la rugosidad de la superficie con un microscopio de fuerza atómica (AFM) y se correlacionó con el Haze calculado a partir de los datos de los espectros obtenidos de transmitancia directa y difusa. Se propone un método de cálculo para caracterizar la textura superficial del film depositado.

Biografía del autor/a

M. G. Furlani, Universidad Nacional del Litoral

Dpto. de Física, Facultad Ingeniería Química

R. H. Buitrago, Universidad Nacional del Litoral Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - CONICET

Dpto. de Física, Facultad Ingeniería Química

Descargas

Publicado

2003-03-24