PLASMA FOCUS DE MÍNIMA ENERGÍA

Autores/as

  • L. Soto Comisión Chilena de Energía Nuclear
  • C. Pavez Comisión Chilena de Energía Nuclear, Universidad de Concepción
  • J. Moreno Comisión Chilena de Energía Nuclear
  • A. Clausse CNEA–CONICET y Universidad Nacional del Centro
  • M. O. Barbaglia CNEA–CONICET y Universidad Nacional del Centro

Resumen

Hasta el momento, los equipos de radiación de plasma pulsante (Plasma Focus) han sido estudiados en un rango mayor a las decenas de Joules. En este trabajo se presenta un diseño de un pulsor cuya energía de trabajo es inferior al Joule. Los parámetros del sistema son 5nF, 5-10kV, 5-10kA, 60-250 mJ, 16 ns de tiempo a la máxima corriente. Se muestra evidencia de la producción de pinch en hidrógeno con 100mJ. La dinámica de la lámina ha sido estudiada usando un sistema de fotografía ultrarrápido (4ns de exposición).

Biografía del autor/a

L. Soto, Comisión Chilena de Energía Nuclear

Casilla 188-D Santiago, Chile

C. Pavez, Comisión Chilena de Energía Nuclear, Universidad de Concepción

Casilla 188-D Santiago, Chile

J. Moreno, Comisión Chilena de Energía Nuclear

Casilla 188-D Santiago, Chile

A. Clausse, CNEA–CONICET y Universidad Nacional del Centro

7000 Tandil, Argentina

M. O. Barbaglia, CNEA–CONICET y Universidad Nacional del Centro

7000 Tandil, Argentina

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Publicado

2005-06-14