MICROMAQUINADO CON LÁSERES SÓLIDOS DE NANO Y FEMTOSEGUNDOS: COMPARACIÓN DE RESULTADOS

  • D Rava UBA
  • H Ferrero UBA
  • L Fidalgo CITEDEF-CONICET
  • M Agüero CITEDEF-CONICET
  • A Hnilo CITEDEF-CONICET
  • M Kovalsky CITEDEF-CONICET

Resumen

En este trabajo se presentan los resultados de la comparación del micromaquinado láser de obleas de silicio empleando la técnica de escritura directa (direct writing) con pulsos de nanosegundos generados por la técnica de Q-switch en Nd:YAG y pulsos de femtosegundos, provenientes del Ti:Zafiro mode lockeado.  Se determinaron los efectos de la redeposición de escombros (debris) y se proponen técnicas para su control.

Biografía del autor

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Departamento de Física, Fac. de Ciencias Exactas y Naturales
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Departamento de Física, Fac. de Ciencias Exactas y Naturales
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Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP
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Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP
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Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP
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Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP
Publicado
2014-09-19
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RAVA, D et al. MICROMAQUINADO CON LÁSERES SÓLIDOS DE NANO Y FEMTOSEGUNDOS: COMPARACIÓN DE RESULTADOS. ANALES AFA, [S.l.], v. 25, n. 2, sep. 2014. ISSN 1850-1168. Disponible en: <https://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/1960>. Fecha de acceso: 15 dic. 2018
Sección
Óptica y Fotofísica