MICROMAQUINADO CON LÁSERES SÓLIDOS DE NANO Y FEMTOSEGUNDOS: COMPARACIÓN DE RESULTADOS

Autores/as

  • D Rava UBA
  • H Ferrero UBA
  • L Fidalgo CITEDEF-CONICET
  • M Agüero CITEDEF-CONICET
  • A Hnilo CITEDEF-CONICET
  • M Kovalsky CITEDEF-CONICET

Resumen

En este trabajo se presentan los resultados de la comparación del micromaquinado láser de obleas de silicio empleando la técnica de escritura directa (direct writing) con pulsos de nanosegundos generados por la técnica de Q-switch en Nd:YAG y pulsos de femtosegundos, provenientes del Ti:Zafiro mode lockeado.  Se determinaron los efectos de la redeposición de escombros (debris) y se proponen técnicas para su control.

Biografía del autor/a

D Rava, UBA

Departamento de Física, Fac. de Ciencias Exactas y Naturales

H Ferrero, UBA

Departamento de Física, Fac. de Ciencias Exactas y Naturales

L Fidalgo, CITEDEF-CONICET

Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP

M Agüero, CITEDEF-CONICET

Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP

A Hnilo, CITEDEF-CONICET

Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP

M Kovalsky, CITEDEF-CONICET

Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones  CEILAP

Publicado

2014-09-19

Número

Sección

Óptica y Fotofísica