OBTENCIÓN DE PELÍCULAS Y POLVOS FERROELÉCTRICOS LIBRES DE PLOMO

Resumen

La utilización de cerámicos libres de plomo, para la fabricación de partes electrónicas, se ve favorecida sobre los cerámicos basados en plomo debido a los altos niveles de toxicidad de estos últimos. El reemplazo de estos componentes se ha convertido en un desafío tecnológico muy importante para lograr cumplir con parámetros deproducción no contaminante y con las mismas o mejores propiedades ferroeléctricas, piezoeléctricas, etc. En este trabajo se estudian composiciones libres de plomo para la generación de películas cerámicas con propiedades piezoeléctricas en la familia de composiciones: (KXNa1-X)NbO3 (NKN) sobre wafers de Si/SiO2/TiOx/Pt utilizando una técnica de sol-gel modificada o CSD (chemical solution deposition), a partir de una solución de precursores principalmente metalorgánicos. Para la deposición se utiliza la técnica de spin-coating con control de atmósfera. Se estudia la influencia de distintos tratamientos térmicos en la cristalización final de las muestras y su relación con las propiedades de las mismas. Las técnicas utilizadas para la caracterización de las películas y polvos de similares composiciones son: UV-Vis, DRX, AFM, DTA-TG.