DEPOSICIÓN ELECTROQUÍMICA DE FOSFURO DE INDIO
Abstract
La deposición electroquímica de un compuesto casi estequiometrico de fosfuro de indio fue obtenida a partir de soluciones acuosas de hexaflúorfosfuro de amonio y cloruro de indio sobre substratos de titanio, silicio y grafito en diversas condiciones de pH, temperatura, agitación, geometrías y disposiciones del cátodo y del ánodo con respecto al flujo, densidades de corriente y tiempos de deposición. Las deposiciones fueron realizadas a corriente constante. Los estudios de microscopía óptica, microscopía electrónica de barrido y microsonda electrónica revelan la presencia de películas, cristales aislados y granos. Los granos presentan diversos tamaños y morfologías formados por la coalescencia de cristales más simples y por la electrodeposición preferencial. Se determinaron algunas de las variables que influyen en la morfología de los cristales y en el tamaño de los mismos. Además se presenta aquí la puesta a punto del dispositivo experimental para la deposición electroquímica del fosfuro de indio.
