MORFOLOGÍA Y ESTABILIDAD TÉRMICA DE PELÍCULAS DELGADAS DE FLUORURO DE ALUMINIO SOBRE Cu(100)

Authors

  • G Ruano Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • J C Moreno-Lopez Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • M C. G. Passeggi Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • R A Vidal Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • J Ferron Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • M A Niño Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • R Miranda Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)
  • J J Miguel Grupo de Física de Superficies e Interfaces - INTEC (CONICET-UNL) Departamento de Materiales - Facultad de Ingeniería Química (UNL)

Abstract

Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica.

Published

2013-07-30

Issue

Section

Condensed Matter