FOTODISOCIACION IR DE SIF4 EN PRESENCIA DE CH4

Abstract

Se estudió la DMFIR de SiF4 utilizando CH4 como gas aceptor. Como mecanismo de excitación se utilizó un láser de CO2 TEA. Las presiones parciales tanto de reactivos y como de productos se midieron por espectrometría FTIR. A partir de estas mediciones se obtuvo la fracción disociada por pulso en función del número de pulsos y de la presión de gas aceptor. Se identificaron los productos de la disociación SiF3H y SiF3CH3. Se propuso un esquema cinético y un modelo.