FOTODISOCIACION IR DE SIF4 EN PRESENCIA DE CH4

Authors

  • A. N. Alcaraz UBA
  • J. Condonia Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).
  • M. L. Azcárate Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).

Abstract

Se estudió la DMFIR de SiF4 utilizando CH4 como gas aceptor. Como mecanismo de excitación se utilizó un láser de CO2 TEA. Las presiones parciales tanto de reactivos y como de productos se midieron por espectrometría FTIR. A partir de estas mediciones se obtuvo la fracción disociada por pulso en función del número de pulsos y de la presión de gas aceptor. Se identificaron los productos de la disociación SiF3H y SiF3CH3. Se propuso un esquema cinético y un modelo.

Author Biographies

A. N. Alcaraz, UBA

Dpto. Física, Facultad Ingeniería

J. Condonia, Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).

Juan Bautista de La Salle 4397 - (B1603ALO) - Villa Martelli - Buenos Aires – Argentina.

M. L. Azcárate, Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).

Juan Bautista de La Salle 4397 - (B1603ALO) - Villa Martelli - Buenos Aires – Argentina.
Carrera del investigador.

Published

2004-06-18