OBTENCIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS DE SILICIO POLICRISTALINO A PARTIR DE CLOROSILANOS EN REACTORES DE CVD

Authors

  • A. G. Benvenuto Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.
  • J. A. Schmidt Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.
  • R. H. Buitrago Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.

Abstract

En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición de películas policristalinas, con tamaños de grano entre 0,2 y 0,5 micrones, a temperaturas de entre 730 y 840 ºC. Las muestras presentan un crecimiento tipo columnar y una clara orientación cristalina (2 2 0). Estas características serían propicias para el transporte electrónico en la dirección perpendicular al sustrato.

Author Biographies

A. G. Benvenuto, Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.

Güemes 3450 - (3000) Santa Fe – Santa Fe – Argentina.

J. A. Schmidt, Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.

Güemes 3450 - (3000) Santa Fe – Santa Fe – Argentina.

R. H. Buitrago, Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC) - Universidad Nacional del Litoral (UNL) - CONICET.

Güemes 3450 - (3000) Santa Fe – Santa Fe – Argentina.

Published

2010-10-28