ESPESORES DE PELÍCULAS DE FOSFURO DE INDIO ELECTRODEPOSITADAS CALCULADOS A PARTIR DE MEDICIONES DE CONCENTRACIÓN ATÓMICA NORMALIZADA

Abstract

El fosfuro de indio obtenido por electrodeposición sobre distintos substratos fue caracterizado teniendo en cuenta la morfología y la composición. Se observaron diversas morfologías en los depósitos, tales como películas delgadas y pegados cristales aislados. La formación depende de la naturaleza del material del substrato. Los materiales utilizados como substratos en estos experimentos fueron titanio, silicio y grafito. Los espesores de las películas de fosfuro de indio fueron determinados a partir de mediciones de las concentraciones atómicas normalizadas. Los espesores calculados utilizando esta técnica estuvieron en muy buena concordancia con los resultados obtenidos por métodos interferométricos. La técnica es no destructiva y puede ser aplicable a películas opacas y a substratos no reflectantes. En el presente trabajo se presenta el modelo empleado para el cálculo de los espesores de películas delgadas, y además, los resultados obtenidos son discutidos y comparados con los determinados mediante otras técnicas.