CARACTERISTICAS MORFOLOGICAS DE LAMINAS DELGADAS DE ZnO:Al OBTENIDAS POR SPUTTERING DE RF

Abstract

El óxido de zinc dopado con aluminio (ZnO:Al) en forma de película delgada fue depositado por la técnica de sputtering de RF. Se modificó la geometría del reactor y las variables de operación tales como la temperatura del sustrato y la presión de argón, para depositar una serie de filmes con propiedades ópticas diversas. La transmitancia óptica se registró con un espectrofotómetro UV-Vis y se obtuvieron los espesores por el método de Swanepoel. Se estudió la morfología de la superficie incluyendo el crecimiento piramidal y la rugosidad de la superficie con un microscopio de fuerza atómica (AFM) y se correlacionó con el Haze calculado a partir de los datos de los espectros obtenidos de transmitancia directa y difusa. Se propone un método de cálculo para caracterizar la textura superficial del film depositado.