ESTUDIO DEL PROCESO DE TRANSFORMACIÓN DE FASE INDUCIDA POR LÁSER EN LÁMINAS DE SILICIO NANO-CRISTALINO
Abstract
Las láminas de silicio nano-cristalino depositadas sobre substratos de vidrio contienen las fases cristalina Si-l y amorfa. La exposición al haz de un láser estándar de Ar de 514,5 nm y potencia superior a 40 mW induce la transformación a la fase cristalina meta-estable Si-XII.
Empleando espectroscopía Raman, se determinó que el efecto de inducción de transformación de fase está correlacionada con la dilución en hidrógeno del gas silano usado como reactivo en la preparación de las láminas, y de ese modo, depende del tamaño de grano y de la fracción de cristalinidad del material.
En espectros registrados a 200 ºC se observa la desaparición de la fase Si-l y una reducción sensible de la inducida Si-XII, evidenciada por la reducción de la altura del pico correspondiente a un 25 % de la altura a temperatura ambiente.
Los resultados muestran que la secuencia de transformación de fases en láminas nano-cristalinas presenta características diferentes a las que se producen en cristales de silicio, y permiten estimar las tensiones residuales en el material (0,4 - 0,7 GPa).
