FOTODISOCIACION IR DE SIF4 EN PRESENCIA DE CH4

  • A. N. Alcaraz UBA
  • J. Condonia Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).
  • M. L. Azcárate Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones CEILAP (CITEFA-CONICET).

Resumen

Se estudió la DMFIR de SiF4 utilizando CH4 como gas aceptor. Como mecanismo de excitación se utilizó un láser de CO2 TEA. Las presiones parciales tanto de reactivos y como de productos se midieron por espectrometría FTIR. A partir de estas mediciones se obtuvo la fracción disociada por pulso en función del número de pulsos y de la presión de gas aceptor. Se identificaron los productos de la disociación SiF3H y SiF3CH3. Se propuso un esquema cinético y un modelo.

Biografía del autor

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Dpto. Física, Facultad Ingeniería
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Juan Bautista de La Salle 4397 - (B1603ALO) - Villa Martelli - Buenos Aires – Argentina.
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Juan Bautista de La Salle 4397 - (B1603ALO) - Villa Martelli - Buenos Aires – Argentina.
Carrera del investigador.
Publicado
2004-06-18
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ALCARAZ, A. N.; CONDONIA, J.; AZCÁRATE, M. L.. FOTODISOCIACION IR DE SIF4 EN PRESENCIA DE CH4. ANALES AFA, [S.l.], v. 16, n. 1, jun. 2004. ISSN 1850-1168. Disponible en: <https://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/274>. Fecha de acceso: 06 feb. 2023