ESTRUCTURA ELECTRÓNICA DE ÓXIDOS DE GaAs

Authors

  • E. A. Aibanesi Instituto para el Desarrollo Tecnológico de la Industria Química (INTEC), Universidad del Litoral y CONICET.
  • S. J. Sferco Instituto para el Desarrollo Tecnológico de la Industria Química (INTEC), Universidad del Litoral y CONICET.
  • G. Allan ISEN.
  • M. Lannoo ISEN.
  • G. Hollinger Ecole Centrale de Lyon.

Abstract

Se analiza la estructura electrónica de los óxidos GaAsO4, As2O5 y GO3. Se presentan resultados experimentales de fotoemisión (XPS) de la densidad de estados (DOS) de banda de valencia para cada uno de los sistemas, y se comparan con cálculos teóricos de la DOS obtenidos a partir del cómputo de las respectivas estructuras de bandas utilizando un método tight-binding. Se identifican los estados atómicos que contribuyen a cada pico experimental y se correlacionan las diferencias estructurales entre estos óxidos con los diferentes rasgos experimentales exhibidos en los espectros XPS.

Author Biographies

G. Allan, ISEN.

41, Bd. Vauban, Lille Cedex, Francia.

M. Lannoo, ISEN.

41, Bd. Vauban, Lille Cedex, Francia.

G. Hollinger, Ecole Centrale de Lyon.

Francia.

Published

2013-09-17