ESTRUCTURA ELECTRÓNICA DE ÓXIDOS DE GaAs

Autores/as

  • E. A. Aibanesi Instituto para el Desarrollo Tecnológico de la Industria Química (INTEC), Universidad del Litoral y CONICET.
  • S. J. Sferco Instituto para el Desarrollo Tecnológico de la Industria Química (INTEC), Universidad del Litoral y CONICET.
  • G. Allan ISEN.
  • M. Lannoo ISEN.
  • G. Hollinger Ecole Centrale de Lyon.

Resumen

Se analiza la estructura electrónica de los óxidos GaAsO4, As2O5 y GO3. Se presentan resultados experimentales de fotoemisión (XPS) de la densidad de estados (DOS) de banda de valencia para cada uno de los sistemas, y se comparan con cálculos teóricos de la DOS obtenidos a partir del cómputo de las respectivas estructuras de bandas utilizando un método tight-binding. Se identifican los estados atómicos que contribuyen a cada pico experimental y se correlacionan las diferencias estructurales entre estos óxidos con los diferentes rasgos experimentales exhibidos en los espectros XPS.

Biografía del autor/a

G. Allan, ISEN.

41, Bd. Vauban, Lille Cedex, Francia.

M. Lannoo, ISEN.

41, Bd. Vauban, Lille Cedex, Francia.

G. Hollinger, Ecole Centrale de Lyon.

Francia.

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Publicado

2013-09-17

Cómo citar

Aibanesi, E. A., Sferco, S. J., Allan, G., Lannoo, M., & Hollinger, G. (2013). ESTRUCTURA ELECTRÓNICA DE ÓXIDOS DE GaAs. ANALES AFA, 3(1). Recuperado a partir de https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/1583